2nm研發(fā)順利、3nm持續(xù)滿載

據(jù)估計(jì)，臺(tái)積電第三季與第四季3、5納米稼動(dòng)率幾乎滿載，進(jìn)入排單階段，3納米滿載盛況更延續(xù)至2025年。另外，臺(tái)積電透露，N2研發(fā)進(jìn)展順利，將如期在2025年進(jìn)入量產(chǎn)、N2P預(yù)計(jì)在2026年下半年量產(chǎn)。

隨著半導(dǎo)體制造工藝節(jié)點(diǎn)的不斷縮小，對(duì)環(huán)境潔凈度的要求也越來(lái)越高，需要管控的污染物已不僅局限在顆粒灰塵及各種懸浮物，而是精確到了氣態(tài)分子污染物（AMC）。

AMC分類

國(guó)內(nèi)曾統(tǒng)計(jì)過(guò)，在無(wú)潔凈級(jí)別要求的環(huán)境下生產(chǎn)MOS電路管芯的合格率僅10%~15%，64位儲(chǔ)存器僅2%?？梢?jiàn)，潔凈環(huán)境對(duì)產(chǎn)品工藝良率的影響巨大。

為了滿足對(duì)先進(jìn)工藝的迫切需求和對(duì)良率提升的挑戰(zhàn)，億天凈化提供的 AMC 檢測(cè) 控制 監(jiān)測(cè)一站式解決方案，可根據(jù)客戶的需求提供多方面的專業(yè)服務(wù)，以保障對(duì)AMC的嚴(yán)格控制。

AMC 檢測(cè)

對(duì)半導(dǎo)體潔凈室進(jìn)行AMC采樣，通過(guò)技術(shù)診斷分析，確認(rèn)AMC主要成分及濃度，針對(duì)性提出最匹配實(shí)際環(huán)境需求的解決方案，達(dá)到最佳空氣凈化效果。?

AMC 控制

化學(xué)過(guò)濾器是去除AMC的關(guān)鍵技術(shù)?；瘜W(xué)過(guò)濾器采用了先進(jìn)的材料和技術(shù)，不僅具備出色的選擇性吸附能力，而且能夠根據(jù)污染物的種類和濃度進(jìn)行定制，以適應(yīng)不同工藝階段的需求，確保在各個(gè)關(guān)鍵工藝中對(duì)AMC的高效去除。

AMC 監(jiān)測(cè)

為了實(shí)時(shí)掌握AMC含量濃度，確保污染控制的持續(xù)穩(wěn)定性，還需搭建AMC在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，對(duì)潔凈室內(nèi)AMC含量濃度等環(huán)境參數(shù)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，實(shí)時(shí)掌握空氣潔凈度的變化趨勢(shì)，以及任何一次超出控制的異常情況，讓污染物在對(duì)工藝、產(chǎn)品可能產(chǎn)生不良影響之前就采取措施，清除可能的不良作業(yè)、污染源和污染事件。 

對(duì)AMC污染的控制是一項(xiàng)至關(guān)重要和復(fù)雜的任務(wù)，它涉及多個(gè)層級(jí)，要求方案精確且全面。除了以上的控制措施，還應(yīng)該從選址、人員操作、材料設(shè)備等源頭進(jìn)行控制，來(lái)有效降低AMC的濃度，保證半導(dǎo)體制造過(guò)程的穩(wěn)定性和產(chǎn)品質(zhì)量的可靠性。