工作原理

離子遷移譜 (IMS)是一種基于均勻電場中離子-分子相互作用的分析技術(shù)。該技術(shù)的主要優(yōu)點是: 結(jié)構(gòu)緊湊、靈敏度高 (ppb-ppt 級) 、響應(yīng)速度快 (毫秒范圍) 、常壓操作和分離異構(gòu)體的能力。傳統(tǒng)的 IMS 儀器主要由電離區(qū)、反應(yīng)區(qū)和漂移管三部分組成離子遷移譜儀示意圖

特點和優(yōu)勢

晶圓廠AMC 監(jiān)控

環(huán)境空氣 ppb 級別檢測

TA、CI?、F-、NH??、VOC

高靈敏度

與獵戶座 3100 結(jié)合，可以監(jiān)控 45 個端口

實時圖形軟件

非放射性等離子體電離源

離子遷移譜技術(shù)具有靈敏度高 (ppb 范圍) 、響應(yīng)速度快 (毫秒范圍) 、結(jié)構(gòu)緊湊、可在大氣壓下操作以及能分離異構(gòu)體等優(yōu)點。在這篇簡短的報告中，我們展示了使用 IMS 檢測復(fù)化氫 (HCI) 和氟化氫 (HF) 的靈敏度和快速響應(yīng)

HCI和 HF 是摩爾質(zhì)量為 36.46 g/mol (HCI) 和 20 g/mol (HF) 的小分子。鹽酸和氣氟酸是醫(yī)藥、高分子、石油化工等工業(yè)中的重要化合物。這兩種化學物質(zhì)在半導體工業(yè)中也很重要.在許多半導體應(yīng)用中，需要在低 ppb 水平下監(jiān)測 HCI 和 HF 的存在

將 60 ppb的HCI與85 ppb 的 HF 進行比較。從右圖很明顯可見，這兩個化合物可以很容易地被 EIMS 區(qū)分IMS 的分離能力可以通過降低離子門脈沖的長度來提高然而，分離度的提高會導致靈敏度的降低。另一方面，犧牲 IMS 的分辨能力可以提高靈敏度。所有這些修改都可以在軟件中輕松實現(xiàn)，用戶可以方便地設(shè)置 HCI 和 HF 檢測的最佳參數(shù)。

技術(shù)參數(shù)

獵戶座 3100 是半導體工業(yè)的完整 AMC系統(tǒng)

獵戶座 3100 是一個多點區(qū)域監(jiān)測系統(tǒng),依次將氣體吸入分析儀或通過氣體傳感器分析讀取濃度，采樣點數(shù)可根據(jù)用戶需求配置。獵戶座 3100 有報警和報告軟件，是依據(jù)多年的經(jīng)驗開發(fā)的系統(tǒng)

獵戶座 3100 可使用以太網(wǎng)、Modbus.RS232/RS485 或可選 4-20mA 模擬模塊，最多可從4至6個分析儀或氣體傳感器輸出數(shù)據(jù)。每個分析器都有一臺內(nèi)部計算機 (Linux OS)它可以無限期地存儲硬盤上的數(shù)據(jù)，并通過數(shù)字(RS232)或以大網(wǎng)輸出將實時數(shù)據(jù)發(fā)送給數(shù)據(jù)存儲器。此外，該分析儀可以通過互聯(lián)網(wǎng)遠程控制。此功能允許用戶在任何可以訪問 internet 的地方使用 web 瀏覽器操作分析儀。此遠程訪問允許對儀器進行 bios 級控制，并提供無需現(xiàn)場即可獲取數(shù)據(jù)和診斷儀器操作的機會

應(yīng)用范圍

控制軟件可從多個不同位置采樣分析 TA、CI?、F?、NH4?、VOC等AMC 進行自動化的實時查看及操作。本軟件程序是專門為監(jiān)測和控制 DUV 光刻過程中空氣污染的半導體設(shè)備編寫的。該軟件靈活性較高，可應(yīng)用于任何需要一個或多個分析儀進行多點采樣的工業(yè)設(shè)置。功能包括簡單的報警交互控制、數(shù)據(jù)記錄、歷史趨勢和 Windows 環(huán)境中的基本分析器功能。
軟件可以快速查看屬于當前操作間的測量點;由于這些點的分析是 EIMS 完成的，每個測量點的目標氣體都是同步檢測的。對于每個測量點，可以看到上一次測量的值，而當前測量點會突出顯示所在的狀態(tài)。此外，還可以查看系統(tǒng)是在手動模式還是自動模式下測量，是在測量樣本還是在后臺階段，自動序列的哪個點正在掃描，以及一個進度條，指示序列的下一步還剩多少。